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超快激光照亮微觀瞬間——用于ICF的雙時刻X射線源

更新時間:2026-01-20點擊次數(shù):118

       封面呈現(xiàn)了用于診斷激光慣性約束聚變(ICF)內(nèi)爆靶丸壓縮狀態(tài)的雙時刻 X 射線照相技術(shù)的原理圖。納秒激光輻照金腔產(chǎn)生軟 X 射線,驅(qū)動靶丸高速內(nèi)爆。雙束皮秒拍瓦激光在不同時刻入射金屬微絲靶,產(chǎn)生兩個高亮度的微焦點X 射線源。該技術(shù)基于點投影方式對內(nèi)爆靶丸進(jìn)行近同軸背光照相,能夠在單一發(fā)次中獲取兩個時刻的高能 X 射線高分辨率照相圖像,進(jìn)而獲得時變的靶丸壓縮不對稱性、面密度等內(nèi)爆關(guān)鍵物理信息。

 

 



研究背景

 



       高能量密度物理領(lǐng)域中包含了大量條件下的超快瞬態(tài)過程,如ICF靶丸內(nèi)爆壓縮過程、加載下材料演化過程等,獲得這些超快瞬態(tài)過程的高時空分辨動態(tài)演化圖像對于理論模型驗證、發(fā)現(xiàn)新物理機制具有重要意義。

 

       皮秒拍瓦激光驅(qū)動的高能X射線源具有皮秒級時間分辨、微米級空間分辨及高能高穿透等特性,采用這種射線源發(fā)展的點投影背光照相技術(shù)已在超快瞬態(tài)過程診斷中得到大量應(yīng)用。然而,單束皮秒激光僅能驅(qū)動單個X射線源實現(xiàn)單發(fā)單時刻的高能X射線背光照相,難以捕捉動態(tài)過程的多時刻演化特征。

 

       為突破這一限制,建設(shè)多束大能量皮秒激光裝置成為了發(fā)展多時刻高能X射線背光照相技術(shù)的關(guān)鍵。上海光學(xué)精密機械研究所的神光II升級裝置具備16束納秒激光與2束皮秒激光聯(lián)合打靶的實驗?zāi)芰Α;谠撗b置可發(fā)展雙時刻高能X射線背光照相技術(shù),但仍需解決雙時刻皮秒X射線源的產(chǎn)生與表征、抗串?dāng)_的照相靶設(shè)計等關(guān)鍵問題。



 

創(chuàng)新工作

 



       為了突破高能 X 射線背光照相關(guān)鍵技術(shù),研究團(tuán)隊依托神光Ⅱ升級裝置開展了間接驅(qū)動高Z靶丸內(nèi)爆過程雙時刻X射線背光照相實驗設(shè)計,系統(tǒng)完成了雙背光源產(chǎn)生和抗串?dāng)_靶的設(shè)計和仿真驗證、照相及能譜診斷設(shè)計等關(guān)鍵技術(shù)研究。

 

       圖1(a)展示了雙時刻X射線照相的基本原理圖。為了解決皮秒激光高能X射線源在照相圖像上的相互串?dāng)_問題,設(shè)計了圖1(b)中的空間分離的雙背光源的構(gòu)型,結(jié)合屏蔽高能X射線的限光結(jié)構(gòu),可以實現(xiàn)雙束照相光路空間分開。

 

       在完成靶設(shè)計后,利用蒙特卡洛程序?qū)Π型璧谋彻庹障噙M(jìn)行了模擬。模擬獲得的不同亮度雙X射線源照相圖像見圖1(c)。上下兩圖的診斷孔內(nèi)均見清晰的靶丸圖像,弱背光源照相未受到強背光源的干擾,驗證了抗串?dāng)_照相靶設(shè)計的可行性。



 

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圖1 雙時刻X射線照相實驗設(shè)計。(a)雙時刻X射線照相原理圖;(b)雙絲背光靶;(c)靶丸X光照相仿真結(jié)果;(d)實驗診斷排布

 

       研究團(tuán)隊成功開展了高Z殼內(nèi)爆靶丸雙時刻高能X射線背光照相實驗。圖2展示了典型的單發(fā)雙時刻高能X射線照相實驗圖像。本發(fā)次中照相客體為鍍金單殼層靶,外直徑φ 為700 μm,從外向內(nèi)依次為CH燒蝕層、金層和玻璃球殼;金腔長3.4 mm,激光注入口直徑1 mm。在延遲納秒激光前沿2 ns后,利用第9路皮秒激光驅(qū)動直徑10 μm的金絲靶產(chǎn)生X射線源;在延遲3.5 ns時,利用A構(gòu)型皮秒激光驅(qū)動同參數(shù)的絲靶產(chǎn)生X射線源,依次對內(nèi)爆靶丸進(jìn)行照相。

 

       圖2(a)和(c)為成像板記錄高能X射線圖像,平均能點約為35 keV,直穿區(qū)域的信噪比(SNR)分別為17和18,靶丸區(qū)域的對比度噪聲比(CNR)分別為3和7,成像分辨率為(12.5±1.5) μm。從高分辨照相圖像上可以直接分析壓縮靶丸的時變不對稱性,本發(fā)實驗中P3、P4顯著增長,主要是由于實驗中納秒激光驅(qū)動不對稱性導(dǎo)致的。



 

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圖2 內(nèi)爆靶丸雙時刻照相圖像。(a) 和 (c) 分別為2 ns和3.5ns 時刻的高能X射線照相圖像;(b) 和 (d) 為對應(yīng)時刻的面密度分布



 

總結(jié)

 



       本文基于神光II升級裝置的雙束皮秒激光打擊雙絲靶產(chǎn)生的雙X射線源,成功實現(xiàn)了對高Z殼內(nèi)爆靶丸的雙時刻高能X射線背光照相。實驗獲得了時變的靶丸壓縮不對稱性、面密度、體密度、質(zhì)量等內(nèi)爆關(guān)鍵物理信息,并診斷了皮秒雙X射線源和照相干擾源的能譜特性。


參考文獻(xiàn): 中國光學(xué)期刊網(wǎng)





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